等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）是借助于放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。
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城市：上海市
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更新時間：2021-11-18
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| 型號 | HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE | HTF1200-5/20-4M-LV-PE | HTF1200-6/40-2M-HV-PE | HTF1200-8/40-4M-HV-PE |
| 設計溫度（℃） | 1200 | 1200 | 1200 | 1200 |
| 控溫精度（℃） | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
| 加熱區直徑（mm） | 25 | 50 | 60 | 80 |
| 加熱區長度（mm） | 200 | 200 | 400 | 400 |
| 加熱管長度（mm） | 450 | 450 | 1000 | 1000 |
| 恒溫區長度（mm） | 80 | 80 | 150 | 150 |
| 額定電壓（V) | 220 | 220 | 220 | 220 |
| 額定功率(KVA) | 1.2 | 1.2 | 3 | 3 |
| 射頻電源功率（W) | 5~300 | 5~300 | 5~500 | 5~500 |
| 真空機組 | HTF-101 | HTF-101 | HTF-104 | HTF-104 |
| 供氣系統 | HTF-2F | HTF-4F | HTF-2M | HTF-4M |
